中国半导体新篇章制程与良率哪一张牌将决定未来竞争

在IBM宣布2nm工艺制程技术突破的背景下,芯片巨头们正处于制程竞赛的新一轮。三星计划推出3nm工艺,台积电则将FinFET扩展到3nm,并预计2024年左右迁移到2nm纳米片FET。尽管先进制程至关重要,但良率同样不可或缺。

良率对芯片厂商而言意味着净利润,而高良率能够确保产品质量和用户体验。然而,没有统一的标准来衡量良率,每家公司都有自己的认定标准。此外,封装测试也会影响产品合格率,而这与芯片制造流程中的不确定因素、环境污染等因素有关。

提升芯片良率可以视为摩尔定律的延续,不仅可以降低成本,还能提高产品性能和可靠性。在经济角度上,提高良率是通过更低成本实现更好产品的一个途径。而非最先进制程上进一步提升良率,也被视为超越摩尔定律(More than Moore)的实践。

然而,将提升芯片良率视为摩尔定律延伸前提是,它并不直接决定晶圆厂是否进入下一代工艺研发。这也是为什么同时研发多个工艺节点成为可能。在比拼性价比时,李海俊认为提升芯片 良率更加实际有效,因为它符合内循环政策引导,并且在当前大部分学者看来,更符合未来发展方向。

总之,在竞争激烈的半导体行业中,无论是追求先进制程还是提升芯片 良率,都是一场终身自我较量,这不仅关系到市场地位和民生安全,也是催人振奋的一段旅程。

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