在芯片解密公司的世界里，制程与良率是两张底牌，它们分别代表了技术创新和质量控制。IBM宣布2nm工艺制程取得重大突破，这提醒我们5nm处理器已经进入大规模市场化阶段，而芯片巨头们正迈向下一轮制程竞赛：三星计划推出3nm工艺，台积电则计划将FinFET扩展到3nm，然后迁移到2nm的纳米片FET。
一直以来，先进制程被视为竞争的目标，但它不仅仅是一个技术挑战，更是一场营销策略的较量。然而，更先进的制程代表着技术领导力、更高性能和更低功耗，因此备受外界关注。
事实上，虽然先进制程对于芯片巨头至关重要，但并非唯一评判标准。良率也是一个极其严肃的问题，它直接影响到了芯片厂商的利润。在生产过程中，每增加1%的良率，都能带来1.5亿美元净利润。这意味着良率对芯片厂商而言，是成功量产不可或缺的一环。
提高良率并不是简单的事务，它需要通过前期研发到后期验证，在风险试产中逐渐提升，并达到一定标准才能正式量产。这是一个漫长且复杂的过程，每个节点都有自己的标准，没有放之四海而皆准的一致性。
不同于消费级产品，如手机，其制造流程相对简单，对于汽车、航空等行业所需的芯片，其制造流程更加复杂，加上更严格要求，因此最终良率会低一些，同时售价也会更高一些。
除了设计越复杂、工艺步骤越多、制程偏移越大导致良率降低之外，环境污染也会对良率造成影响。因此，对于芯片企业来说，提高 良率不仅关系到成本控制，也关系到产品质量和用户体验。
提升 良率可以看作是摩尔定律的一个延续，因为它反映了经济成本上的优化。而摩尔定律本身是一种经验法则，是集成电路领域的一个经济模型，不再只是晶体管数量增长的一种规律，而是包括了更多方面如成本控制等因素。
随着PPA（功耗、性能和面积）的评估方法不足以全面衡量产品决策效果，大部分学者开始支持采用C（成本）、T（时间）以及R（可靠性）等其他标准，这些与 良率息息相关。当比较提升 良率与研发下一代制程哪一种路径性价比更高时，可以看到提升 良率实际上更加有效，因为许多应用并不需要那么先进甚至可能花费大量金钱却获得有限回报，这使得提高 良rate成为一种现实有效的手段，即便是在政策引导下如此认为这一方向符合内循环发展需求。此外，从产业链发展和国家安全角度来看，无论如何都不应放弃研发先进制过程，因为这是赢家通吃游戏中的必胜要素。如果把这理解为竞赛，那么提高 制程就是自我较量，而 提升 高品质输出就成为了这一较量中的关键考验。
